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先進封裝清洗劑國產(chǎn)品牌與基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)介紹

發(fā)布日期:2023-04-28 14:56:08     來源:先進封裝技術(shù)     作者:合明科技     瀏覽次數(shù):113
核心提示:先進封裝清洗劑國產(chǎn)品牌與基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)介紹,這里的XY平面指的是Wafer或者芯片的XY平面,這類封裝的鮮明特點就是沒有TSV硅通孔,其信號延伸的手段或技術(shù)主要通過RDL層來實現(xiàn),通常沒有基板,其RDL布線時是依附在芯片的硅體上,或者在附加的Molding上。

今天小編為大家?guī)硪黄P(guān)于先進封裝清洗劑國產(chǎn)品牌與基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)介紹~

 基于XY平面延伸的  先進封裝技術(shù)

這里的XY平面指的是Wafer或者芯片的XY平面,這類封裝的鮮明特點就是沒有TSV硅通孔,其信號延伸的手段或技術(shù)主要通過RDL層來實現(xiàn),通常沒有基板,其RDL布線時是依附在芯片的硅體上,或者在附加的Molding上。因為z終的封裝產(chǎn)品沒有基板,所以此類封裝都比較薄,目前在智能手機中得到廣泛的應用。

一、FOWLP

FOWLP (Fan-out Wafer Level Package)是WLP(Wafer Level Package)的一種,因此我們需要先了解WLP晶圓級封裝。因為封裝完成后再進行切割分片,因此,封裝后的芯片尺寸和裸芯片幾乎一致,因此也被稱為CSP(Chip Scale Package)或者WLCSP(Wafer Level Chip Scale Packaging),此類封裝符合消費類電子產(chǎn)品輕、小、短、薄化的市場趨勢,寄生電容、電感都比較小,并具有低成本、散熱佳等優(yōu)點。

FOWLP,由于要將RDL和Bump引出到裸芯片的外圍,因此需要先進行裸芯片晶圓的劃片分割,然后將獨立的裸芯片重新配置到晶圓工藝中,并以此為基礎(chǔ),通過批量處理、金屬化布線互連,形成z終封裝。FOWLP封裝流程如下圖所示。

1-先進封裝清洗劑國產(chǎn)品牌與基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)介紹~合明科技.png

無論是采用Fan-in還是Fan-out,WLP晶圓級封裝和PCB的連接都是采用倒裝芯片形式,芯片有源面朝下對著印刷電路板,可以實現(xiàn)z短的電路徑,這也保證了更高的速度和更少的寄生效應。另一方面,由于采用批量封裝,整個晶圓能夠?qū)崿F(xiàn)一次全部封裝,成本的降低也是晶圓級封裝的另一個推動力量。

二、INFO

InFO(Integrated Fan-out)是TSMC)于2017年開發(fā)出來的FOWLP先進封裝技術(shù),是在FOWLP工藝上的集成,可以理解為多個芯片F(xiàn)an-Out工藝的集成,而FOWLP則偏重于Fan-Out封裝工藝本身。

2-先進封裝清洗劑國產(chǎn)品牌與基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)介紹~合明科技.png三、FOPLP

FOPLP(Fan-out Panel Level Package)面板級封裝,借鑒了FOWLP的思路和技術(shù),但采用了更大的面板,因此可以量產(chǎn)出數(shù)倍于 300 毫米硅晶圓芯片的封裝產(chǎn)品。

3-先進封裝清洗劑國產(chǎn)品牌與基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)介紹~合明科技.png

FOPLP采用了PCB上的生產(chǎn)技術(shù)進行RDL的生產(chǎn),其線寬、線間距目前均大于10um,采用SMT設(shè)備進行芯片和無源器件的貼裝,由于其面板面積遠大于晶圓面積,因而可以一次封裝更多的產(chǎn)品。相對FOWLP,F(xiàn)OPLP具有更大的成本優(yōu)勢。目前,全球各大封裝業(yè)者包括三星電子、日月光均積極投入到FOPLP 制程技術(shù)中。四、EMIBEMIB(Embedded Multi-Die Interconne ct Bridge)嵌入式多芯片互連橋先進封裝技術(shù)是由英特爾提出并積極應用的,和前面描述的3種先進封裝不同,EMIB是屬于有基板類封裝,因為EMIB也沒有TSV,因此也被劃分到基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)。

4-先進封裝清洗劑國產(chǎn)品牌與基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù)介紹~合明科技.png

和硅中介層(interposer)相比,EMIB硅片面積更微小、更靈活、更經(jīng)濟。EMIB封裝技術(shù)可以根據(jù)需要將CPU、IO、GPU甚至FPGA、AI等芯片封裝到一起,能夠把10nm、14nm、22nm等多種不同工藝的芯片封裝在一起做成單一芯片,適應靈活的業(yè)務的需求。

通過EMIB方式,KBL-G平臺將英特爾酷睿處理器與AMD Radeon RX Vega M GPU整合在一起,同時具備了英特爾處理器強大的計算能力與AMD GPU出色的圖形能力,并且還有著極 佳的散熱體驗。這顆芯片創(chuàng)造了歷史,也讓產(chǎn)品體驗達到了一個新的層次。

五、先進封裝產(chǎn)品清洗劑:

先進封裝產(chǎn)品芯片焊后封裝前,基板載板焊盤上的污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環(huán)境中的濕氣,通電后發(fā)生電化學遷移,形成樹枝狀結(jié)構(gòu)體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內(nèi)的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質(zhì)量降低、焊接時焊點拉尖、產(chǎn)生氣孔、短路等等多種不良現(xiàn)象。

這么多污染物,到底哪些才是z備受關(guān)注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質(zhì)在所有污染物中的占據(jù)主導,從產(chǎn)品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產(chǎn)品質(zhì)量z主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質(zhì)引發(fā)接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質(zhì)量。

針對先進封裝產(chǎn)品芯片焊后封裝前,基板載板焊盤、電子制程精密焊后清洗的不同要求,合明科技在水基清洗方面有比較豐富的經(jīng)驗,對于有著低表面張力、低離子殘留、配合不同清洗工藝使用的情況,自主開發(fā)了較為完整的水基系列產(chǎn)品,精細化對應涵蓋從半導體封裝到PCBA組件終端,包括有水基清洗劑和半水基清洗劑,堿性水基清洗劑和中性水基清洗劑等。具體表現(xiàn)在,在同等的清洗力的情況下,合明科技的兼容性較佳,兼容的材料更為廣泛;在同等的兼容性下,合明科技的清洗劑清洗的錫膏種類更多(測試過的錫膏品種有ALPHA、SMIC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等品牌;測試過的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分),清洗速度更快,離子殘留低、干凈度更好。

想了解更多關(guān)于先進封裝產(chǎn)品芯片清洗的內(nèi)容,請訪問我們的先進封裝產(chǎn)品芯片清洗產(chǎn)品與應用


標簽: 水基清洗劑

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